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“高强度，高纯度氧化铝陶瓷”为医疗和耐等离子领域做出的贡献
西村高强度高纯度氧化铝陶瓷N-9000NS和N-9000T
西村高强度高纯度氧化铝陶瓷N-9000NS和N-9000T的平均晶粒尺寸为1μm或更小，比普通高纯度氧化铝陶瓷强1.5至2倍。作为使用的陶瓷，它引起了人们的注意。另外，由于几乎没有晶界偏析，因此被用作具有优异的耐等离子体性的半导体制造设备用陶瓷。
“高纯度氧化铝陶瓷”具有各种特性，但应注意六个主要特性。
（1）优异的耐久性
由于其高硬度和出色的耐磨性，它适合用作长时间使用的零件的材料。
（2）难以突破
它是精密零件的z佳材料，因为它抗弯曲，扭曲和压缩，并且不易损坏。
（3）温和，易洗
表面光滑，且晶体粒径为1微米或更小。
由于红细胞的大小为5微米，因此不易粘附到氧化铝晶体上且易于清洗，因此
适用于重复使用以及需要保持卫生的应用。
（4）耐化学药品
它不易被大多数酸和碱侵蚀，并具有出色的耐化学性。
（5）优异的耐等离子性
由于它具有高纯度（Al 2 O 3 > 99.9％）并且几乎没有晶间偏析，因此被用作抗等离子体材料。
（6）绝缘性好
由于杂质少，因此绝缘击穿电压高（能够承受作为绝缘材料的电压的能力），体积效率低（每单位体积的电阻值），即使在高温下也保持绝缘，并且耐热性优异。
评价项目 | 单元 | 西村高纯 | （参考值） | |||
N-9000NS | N-9000T | ISO 6474 * 1 | ASTM F603 * 1 | |||
堆积密度 | 克/厘米3 | 3.99 | 3.99 | ≧3.94 | ≧3.90 | |
化学成分 | 铝2 O 3 | ％ | > 99.9 | > 99.9 | ≧99.5 | ≧99.5 |
氧化镁 | ％ | <0.05 | <0.05 | ≤0.3 | ― | |
其他 | ％ | <0.05 | <0.05 | ― | ― | |
SiO2 + CaO + | ％ | ― | ― | ≤0.1 | ― | |
SiO2 +碱 | ％ | ― | ― | ― | ≤0.1 | |
精细的 | 平均晶粒尺寸 | 微米 | 0.95 | 0.95 | ≤4.5 | ≤7 |
标准偏差 | 微米 | ― | ― | ≤2.6 | ― | |
弯曲强度 | 兆帕 | 822 | 750 | ― | ≧400 | |
弹性系数 | GPa | 406 | 401 | ― | ≧380 | |
维氏硬度 | GPa | 21.4 | 18.8 | ― | ― | |
特别地，从特征（3）中提到的表面光滑度可以预期以下应用。
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